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光罩:簡介,結構,光刻,積體電路 - 中文百科全書
光罩（英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似於沖洗照片時，利用底片 ...
利用光學讀取頭產生之灰階底片光罩 - 博碩士論文網
論文摘要灰階光罩有許多不同的光罩製作方式，因為微影製程簡單，近年來備受矚目，有半階光罩、HEBS玻璃灰階光罩、雷射直寫(Laser Direct Write)玻璃灰階光罩。 ; 2006 · 英文.
